介紹：在醫(yī)療器械行業(yè)，特別是針對(duì)冠狀動(dòng)脈支架（Coronary Stents）而言，涂層（如載藥聚合物或派瑞林 Parylene）的涂敷是制造過程中至關(guān)重要的一步。確保涂層厚度一致達(dá)到完整藥效的精確性和均勻性，不僅關(guān)乎醫(yī)療器械的效能，更直接影響患者的生命安全。
一、 為什么支架涂層厚度測(cè)量至關(guān)重要？
冠狀動(dòng)脈支架通常涂有生物相容性材料或藥物洗脫聚合物，以改善性能并防止并發(fā)癥。涂層厚度必須嚴(yán)格控制，原因如下：
預(yù)防支架血栓與再狹窄： 涂層厚度不當(dāng)可能導(dǎo)致嚴(yán)重的臨床失敗。如果涂層太?。ɡ缗扇鹆滞繉尤舻陀?5µm），水分可能會(huì)滲透薄膜導(dǎo)致腐蝕或產(chǎn)生針孔；相反，涂層過厚則可能導(dǎo)致表面開裂或脫層，進(jìn)而引發(fā)炎癥反應(yīng)或血栓形成。
精確控制藥物釋放： 對(duì)于藥物洗脫支架（DES），涂層充當(dāng)著藥物庫的角色。厚度直接決定了藥物釋放的動(dòng)力學(xué)；涂層不均勻會(huì)導(dǎo)致藥物釋放不一致，可能造成治療失敗或局部藥物濃度過高產(chǎn)生的毒性。
幾何一致性與機(jī)械完整性： 支架具有復(fù)雜的圓柱形幾何結(jié)構(gòu)。涂層必須保形（Conformal），覆蓋所有銳邊和縫隙，而不能在支架（Struts）之間產(chǎn)生“結(jié)網(wǎng)"或“積液"。精確的測(cè)量能確保薄膜在支架植入擴(kuò)張時(shí)具有足夠的柔韌性，而不會(huì)剝落或破裂。
二、 如何以低成本、簡(jiǎn)單的測(cè)量工具實(shí)現(xiàn)精確測(cè)量？
傳統(tǒng)的測(cè)量方法（如使用掃描電子顯微鏡 SEM 或稱重法）通常成本高昂、耗時(shí)較長(zhǎng)，且屬于破壞性檢測(cè)，無法檢測(cè)到局部的涂層缺陷。相比之下， 光譜反射法（Spectral Reflectance, SR或者WLRS） 已成為支架涂層測(cè)量的低成本、高效方案。
光譜反射法的工作原理： 光線從薄膜的頂層和底層界面反射，這些反射光相互干涉，在反射光譜中形成特征性的強(qiáng)度振蕩。薄膜越厚，光譜中的振蕩就越多。通過分析這些振蕩，可以精度地計(jì)算出厚度。
三、為什么選擇光譜反射工具（如 Thetametrisis）：
非破壞性檢測(cè)：無需切開或損壞支架即可完成測(cè)量，降低了樣品的損耗成本。
速度快、效率高：現(xiàn)代的光譜反射設(shè)備可以在幾毫秒內(nèi)提供結(jié)果。通過使用快速傅里葉變換（FFT）算法，即使是較厚的涂層也能快速獲得高準(zhǔn)確性的結(jié)果。
操作簡(jiǎn)單：與 SEM 不同，這類工具通常是臺(tái)式系統(tǒng)，不需要復(fù)雜的樣品準(zhǔn)備過程，普通技術(shù)人員即可操作。簡(jiǎn)易判讀 確認(rèn)量測(cè)的準(zhǔn)確性以及重復(fù)效果
推薦的測(cè)量工具類型
標(biāo)準(zhǔn)光斑系統(tǒng)（如 FR-ES 系列）：適用于測(cè)量較大的區(qū)域或血管成形術(shù)氣囊的壁厚。
微小光斑系統(tǒng)（如 FR-MIC或是 FR-uProbe系列）：這類基于顯微鏡的工具可以將光斑縮小至幾個(gè)微米，非常適合定位支架上細(xì)小的支柱（Struts），確保即使在最復(fù)雜的幾何結(jié)構(gòu)上涂層也是均勻的。
總結(jié)：通過采用非接觸式的光譜反射技術(shù)，醫(yī)療器械制造商能夠以更低的成本和更簡(jiǎn)化的流程，實(shí)現(xiàn)納米級(jí)的測(cè)量精度。這不僅優(yōu)化了生產(chǎn)效率，更為冠狀動(dòng)脈支架的安全性提供了堅(jiān)實(shí)的質(zhì)量保障。
軟件顯示測(cè)量示例：
問題解答：
Q1：為什么冠狀動(dòng)脈支架的涂層厚度如此重要？
A： 涂層厚度直接影響支架的安全性與療效。
太薄（如派瑞林 < 5µm）可能導(dǎo)致水分滲透、腐蝕或針孔缺陷；
太厚則可能引起開裂、脫層，誘發(fā)炎癥或血栓；
對(duì)于藥物洗脫支架（DES），厚度還決定藥物釋放速率，不均勻會(huì)導(dǎo)致治療失敗或局部毒性。
Q2：傳統(tǒng)測(cè)量支架涂層的方法有哪些？有何缺點(diǎn)？
A： 常見傳統(tǒng)方法包括掃描電子顯微鏡（SEM）和稱重法。
缺點(diǎn)：成本高、耗時(shí)長(zhǎng)、屬于破壞性檢測(cè)，無法識(shí)別局部缺陷（如某一根支柱涂層不均）。
Q3：為什么推薦使用 ThetaMetrisis 的光譜反射設(shè)備？
A： 相比傳統(tǒng)方法，其優(yōu)勢(shì)包括：
非破壞性：無需切割或損壞昂貴的支架樣品；
速度快：測(cè)量?jī)H需幾毫秒；
操作簡(jiǎn)便：臺(tái)式設(shè)計(jì)，普通技術(shù)人員即可操作，無需復(fù)雜樣品制備；
高精度定位：搭配顯微系統(tǒng)（如 FR-uProbe）可聚焦至幾微米光斑，精準(zhǔn)測(cè)量支架細(xì)小支柱上的涂層。
